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Intels erste 45 nm Chips funktionieren

Wie es aussieht kommen die ersten voll funktionsfähigen SRAM-Chips im 45 Nanometer Verfahren von Chip-Gigant Intel.

26.01.2006, 17:45 Uhr
Laptop© Micha Bednarek / Fotolia.com

Nachdem der US-amerikanische Chip-Riese Intel schon als erster die Massenproduktion der derzeit gebräuchlichen 65 nm Chips melden konnte, gelang es den Ingenieuren nun die ersten Intel-Halbleiter im 45 nm Prozess herzustellen.
Mehr Leistung pro Watt
Je nach Anwendung - ob im mobilen oder im Desktop-Bereich - ist der Chip in verschieden Richtungen entwickelbar. Durch die neue Technik kann die Schaltgeschwindigkeit der Transistoren um über 20 Prozent gesteigert werden, was wiederum der Leistungsfähigkeit zu Gute kommen würde. Über eine Milliarden Transistoren finden auf den 119 qmm kleinen Chips Platz.
Das neue Herstellungsverfahren ermöglicht also bei gleicher Platinengröße eine höhere Transistordichte und damit eine höhere Arbeitsfrequenz. Alternativ könnte die Größe der Chips auf Kosten geringerer Leistungssteigerung erheblich verkleinert werden. Diese Variante dürfte besonders für den Notebook-Bereich in Frage kommen.
Nicht vor 2007
Für den mobilen Einsatz können die Verluste durch so genannte Leckströme um ein Fünftel gesenkt werden. Leckströme stehen zum Beispiel in direktem Zusammenhang mit der Wärmeentwicklung. Die neuen Chips bieten gegenüber ihren 65 nm Brüdern zu dem eine mehr als doppelt so große Kapazität von 153 MBit (65 nm = 70 MBit) bei ähnlicher Größe. Auch den Energiebedarf der Winzlinge will Intel mit dem neuen Fertigungsverfahren noch einmal um ca. 30 Prozent senken. Im Endeffekt heißt das "mehr Leistung pro Watt".
Intel kündigte an, die neuen Chips neben der laufenden Fertigung im US-Bundestaat Oregon auch in Arizona (USA) und Israel, bauen zu wollen. Das Unternehmen peilt an, ab Mitte 2007 die neue Technik in Prozessoren verbauen zu können. Bis dahin wird auch die Produktion der aktuellen 65 nm Chips gefördert.

(Philip Meyer-Bothling)

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